Деловое издание The Financial Times поведало, что в конце прошлой недели вновь назначенный генеральный директор Intel Роберт Суон (Robert Swan) выступил перед небольшой группой журналистов, прокомментировав обеспокоенность некоторых инвесторов и акционеров Intel увеличением расходов компании на исследования и разработки, а также капитальное строительство. Если в начале десятилетия на эти нужды тратилось не более 27% выручки, то в 2018 году показатель приблизился к 40%.Intel, по словам Суона, ориентируется на присутствие в новых сегментах рынка, а для успеха этой экспансии не обойтись серьёзными затратами.

Так же глава Intel признал, что «слишком агрессивный» подход к сохранению темпа освоения новых технологических норм вышел компании боком.Вместо того, чтобы, как и прежде, каждые два года повышать плотность компоновки транзисторов в два раза, специалисты Intel попытались на очередном этапе получить прирост в 2,7 раза, шагнув от 14 нм сразу к 10 нм. Итогом стала пятилетняя задержка поставок 10-нанометровой продукции.
Гендиректор Intel заверил, что на следующем шаге компания вернутся к прежнему темпу: через два года начнется выпуск 7-нанометровой продукции, которая по плотности компоновки транзисторов будет в два раза превосходить 10-нанометровую. Как утверждается, эта технология уже находится в разработке.
С одной стороны, Суон говорит о необходимости крайнего ужесточения финансовой дисциплины. С другой стороны, он предостерегает от экономии на всём подряд, и призывает не трогать стратегически важные направления инвестиций. Как эти общие формулировки отразятся на реальной инвестиционной и исследовательской деятельности Intel, мы наверняка увидим в ближайшее время.