Samsung Foundry New EUV Line main

Компания Samsung , мировой лидер в области передовых полупроводниковых технологий, объявила о запуске серийного производства на новой линии по выпуску полупроводников в Хвасоне (Hwaseong), Корея. Производственная линия V1 является первой линией Samsung, специализирующейся исключительно на выпуске полупроводников с применением технологии EUV (литографии в глубоком ультрафиолете, extreme ultraviolet), и производит чипы с использованием функциональных узлов, выполненных по 7-нанометровому и еще более тонким техпроцессам. Линия V1 была основана в феврале 2018 года, а тестовое производство полупроводниковых пластин было запущено во второй половине 2019 года. Первые партии продукции, выпущенные на этой линии, поступят заказчикам в первом квартале 2020 года.
К концу 2020 года совокупный объем инвестиций в линию V1 в соответствии с планом Samsung достигнет 6 млрд долларов США, а общий объем производства продукции, выполненной по 7-нм техпроцессу и ниже, увеличится в три раза от уровня 2019 года. Компания рассчитывает, что вместе с линией S3, линия V1 будет играть ключевую роль в способности компании реагировать на быстрорастущий глобальный спрос на полупроводниковую продукцию, выполненную с использованием технологических процессов ниже 10 нм. По мере дальнейшего уменьшения габаритов полупроводниковых устройств внедрение технологии литографии в глубоком ультрафиолете обретает все более важное значение для отрасли, поскольку эта технология позволяет продолжить дальнейшую миниатюризацию сложных схем на пластине и предложить оптимальные решения для новых применений, таких как сети 5-го поколения, искусственный интеллект и автомобильная электроника.